Název:
SMV-2015-15: Vývoj amplitudově fázové masky
Překlad názvu:
SMV-2015-15: Development of combined amplitude/phase photo masks
Autoři:
Horáček, Miroslav ; Kolařík, Vladimír ; Matějka, Milan ; Krátký, Stanislav ; Chlumská, Jana ; Meluzín, Petr ; Král, Stanislav Typ dokumentu: Výzkumné zprávy
Rok:
2015
Jazyk:
cze
Abstrakt: [cze][eng] Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou. Výzkum zahrnuje analýzu grafického resp. optického motivu, výzkum a aplikaci reliéfních struktur realizujících požadované grafické resp. optické vlastnosti, vývoj technologických postupů pro přípravu kombinované fotošablony, která zpracovává současně amplitudu i fázi procházejícího světla, ověření optických vlastností takové fotošablony.Research and development in the field of physical realization of transparent and opaque optical structures by means of electron beam lithography in a recording material supported by a glass substrate. The research covers the analysis of the graphical motive, its topology and morphology, research and application of binary and relief structures performing required graphical and optical properties, development of technology for the preparation of combined photo masks that process both the amplitude and the phase of the light beam, verification of optical properties of such masks.
Klíčová slova:
amplitude photo mask; e-beam lithography; phase photo mask
Instituce: Ústav přístrojové techniky AV ČR
(web)
Informace o dostupnosti dokumentu:
Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR. Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0253890