Název: Diamond growth on silicon and WC-Co by microwave plasma chemical vapor deposition
Autoři: Frgala, Z. ; Kudrle, V. ; Janča, J. ; Buršíková, V. ; Vašina, P. ; Meško, M. ; Buršík, Jiří ; Kadlečíková, M. ; Klapetek, P.
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: Annual conference of doctoral students /12./, Praha (CZ), 2003-06-10 / 2003-06-13
Rok: 2003
Jazyk: eng
Abstrakt: We studied the growth of microcrystalline diamond films on pre-treated Si and WC-Co substrates by microwave plasma chemical vapor deposition.We observed the interesting time dependence of the negative bias voltage during nucleation stage which is useful for nucleation process monitoring. The layers were analysed by Raman spectroscopy, scanning electron microscopy and atomic force microscopy.
Klíčová slova: CVD; diamond; microscopy
Číslo projektu: CEZ:AV0Z2041904 (CEP), IBS2041105 (CEP)
Poskytovatel projektu: GA AV ČR
Zdrojový dokument: WDS'03 Proceedings of contributed papers, ISBN 80-86732-18-5

Instituce: Ústav fyziky materiálů AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0075012

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-26591


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Ústav fyziky materiálů
Konferenční materiály > Příspěvky z konference