Název: Hydrogen plasma treatment of ZnO thin films
Autoři: Chang, Yu-Ying ; Neykova, Neda ; Stuchlík, Jiří ; Purkrt, Adam ; Remeš, Zdeněk
Typ dokumentu: Příspěvky z konference
Konference/Akce: NANOCON 2016. International Conference on Nanomaterials - Research and Application /8./, Brno (CZ), 20161019
Rok: 2017
Jazyk: eng
Abstrakt: ZnO is an attractive wide band gap semiconductor with large exciton binding energy, high refractive index, high biocompatibility and diversety of nanostructure shapes which makes it suitable for many applications in the optoelectronic devices, optical sensors, and biosensors. We study the effect of hydrogen plasma treatment of the nominally undoped ZnO thin film deposited by DC reactive magnetron sputtering of Zn target in the gas mixture of argon and oxygen plasma. The SEM images show that the crystal size increases with film thickness. We confirm, that the electrical conductivity significantly increases after hydrogen plasma treatment by 4 orders of magnitude. Moreover, the increase of the infrared optical absorption, related to free carrier concentration, was detected below the optical absorption edge by the photothermal deflection spectroscopy.\n
Klíčová slova: hydrogen plasma treatment; reactive magnetron sputtering; ZnO
Číslo projektu: GC16-10429J (CEP), KONNECT-007
Poskytovatel projektu: GA ČR, AV ČR
Zdrojový dokument: NANOCON 2016 8th International Conference on Nanomaterials - Research & Application. Conference proceedings, ISBN 978-80-87294-71-0
Poznámka: Související webová stránka: https://www.nanocon.eu/cz/sbornik-nanocon-2016/

Instituce: Fyzikální ústav AV ČR (web)
Informace o dostupnosti dokumentu: Dokument je dostupný v příslušném ústavu Akademie věd ČR.
Původní záznam: http://hdl.handle.net/11104/0274500

Trvalý odkaz NUŠL: http://www.nusl.cz/ntk/nusl-364668


Záznam je zařazen do těchto sbírek:
Věda a výzkum > AV ČR > Fyzikální ústav
Konferenční materiály > Příspěvky z konference