Number of found documents: 1037
Published from to

In vivo study of diatom assemblages using low temperature method for ESEM
Tihlaříková, Eva; Neděla, Vilém; Fránková, Markéta
2017 - English
Diatoms are the most species-rich algal group represented by 12 000 described species and are recognized as powerful bio indicators and used for water quality monitoring. Diatom taxonomy is predominantly based on the morphology of ornate silicified cell wall called frustule composed of two overlapping parts (thecae). This frustule displays intricate patterns and designs unique to each species. For these studies conventional scanning electron microscopy (SEM) was and still is widely used. This method requires cleaning of diatom frustules in strong acids and peroxides followed by conductive coating.This aggressive procedure removes protoplast and damages delicate structures. Environmental scanning electron microscopy (ESEM) brings advantages of observation of fresh diatom material that are presence of whole intact diatom cells, not only empty diatom frustules, extracellular mucilaginous diatom secrets (e.g. pads, stalks, tubes) and whole diatom assemblages directly in situ together with other algal assemblages (e.g. cyanobacteria or green algae). However, in diatom research, ESEM is used mainly for elimination of conductive coating and observation of these organisms in their native wet state adhered directly on the host plant is not yet common. The ESEM observation of native aquatic samples is usually affected with radiation damage that can be lovered by the use of special methods like the Low Temperature Method (LTM) for the ESEM. Keywords: ESEM; diatom; morphology; LTM Available at various institutes of the ASCR
In vivo study of diatom assemblages using low temperature method for ESEM

Diatoms are the most species-rich algal group represented by 12 000 described species and are recognized as powerful bio indicators and used for water quality monitoring. Diatom taxonomy is ...

Tihlaříková, Eva; Neděla, Vilém; Fránková, Markéta
Ústav přístrojové techniky, 2017

Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes
Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Řiháček, Tomáš; Kolařík, Vladimír; Chlumská, Jana; Urbánek, Michal
2017 - English
Membranes are typically created by a thin silicon nitride (SIN) layer deposited on a silicon wafer. Both, top and bottom side of the wafer is covered by a thin layer of the silicon nitride. The principle of silicon nitride membranes preparation is based on the wet anisotropic etching of the bottom side of the silicon wafer with crystallographic orientation (100). While the basic procedure for the preparation of such membranes is well known, the nano patterning of thin membranes presents quite important challenges. This is partially due to the mechanical stress which is typically presented within such membranes. The resolution requirements of the\nmembrane patterning have gradually increased. Advanced lithographic techniques and etching procedures had to be developed. This paper summarizes theoretical aspects, technological issues and achieved results. The application potential of silicon nitride membranes as a base for multifunctional micro system (MMS) is also\ndiscussed. Keywords: e-beam writer; silicon nitride membranes; nano patterning; anisotropic etching Available at various institutes of the ASCR
Nanopatterning of Silicon Nitride Membranes

Membranes are typically created by a thin silicon nitride (SIN) layer deposited on a silicon wafer. Both, top and bottom side of the wafer is covered by a thin layer of the silicon nitride. The ...

Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Řiháček, Tomáš; Kolařík, Vladimír; Chlumská, Jana; Urbánek, Michal
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-03: Planární mikrostruktury pro optické aplikace
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2017 - Czech
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární mikrostruktury realizující požadované optické vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální a technologické realizace mikrostruktur s ohledem na limity vědeckých přístrojů, kterými disponujeme ve své laboratoři, přípravu datových vstupů pro expozici na elektronovém litografu, vlastní realizaci vzorků, vyhodnocení těchto vzorků a zpracování technické dokumentace. Development in the field of planar microstructures for optical applications, physical realization of structures by means of electron beam lithography. The project covers the processing and analysis of the graphical motive, research and application of planar microstructures performing required optical properties, research and modeling of the physical possibilities of implementation of microstructures, regard to the limits of current scientific instruments in our laboratory, data preparation for e-beam lithography exposure, samples exposure, verification of properties of samples and technical documentation preparation. Keywords: planar; microstructures; optics; e-beam lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-03: Planární mikrostruktury pro optické aplikace

Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace a následná realizace vzorků metodou elektronové litografie. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární ...

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-05: Vývoj matrice pro NIL
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2017 - Czech
Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou. Research and development in the field of physical realization of transparent and opaque optical structures by means of electron beam lithography in a recording material supported by a glass substrate. Keywords: NIL; e-beam lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-05: Vývoj matrice pro NIL

Výzkum a vývoj v oblasti fyzikální realizace grafických a optických struktur prostředky elektronové litografie v záznamovém materiálu neseném skleněnou deskou....

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

Fluorescence a povrchem zesílená Ramanova spektroskopie v mikrofluidice pro monitorování enzymatických reakcí
Pilát, Zdeněk; Šmatlo, Filip; Ježek, Jan; Krátký, Stanislav; Zemánek, Pavel
2017 - Czech
Realizovali jsme dva různé systémy detekce koncentrace molekul v mikrofluidních systémech. První způsob využívá optická vlákna a detekuje intenzitu fluorescence, zatímco druhá metoda spočívá v užití povrchem zesílené Ramanovy spektroskopie (surface enhanced Raman spectroscopy, SERS). We have implemented two different systems for detecting the concentration of molecules in microfluidic systems. The first method uses optical fibers and detects the intensity of fluorescence, while the second method is using surface enhanced Raman spectroscopy (SERS). Keywords: optofluidics; biofotonics Available at various institutes of the ASCR
Fluorescence a povrchem zesílená Ramanova spektroskopie v mikrofluidice pro monitorování enzymatických reakcí

Realizovali jsme dva různé systémy detekce koncentrace molekul v mikrofluidních systémech. První způsob využívá optická vlákna a detekuje intenzitu fluorescence, zatímco druhá metoda spočívá v užití ...

Pilát, Zdeněk; Šmatlo, Filip; Ježek, Jan; Krátký, Stanislav; Zemánek, Pavel
Ústav přístrojové techniky, 2017

Laserový standard pro metrologii délky a času
Pravdová, Lenka; Hrabina, Jan; Čížek, Martin; Číp, Ondřej
2017 - Czech
Předkládaná práce popisuje vývoj a dosažené parametry laserového standardu přesného optického kmitočtu pracujícího v IR spektrálním pásmu (okolí 1540 nm). Úkolem bylo vyvinout stabilní a robustní laserový systém umožňující nasazení nejen ve vědeckých a metrologických laboratořích, ale dovolující i distribuci přesných signálů po stávajících telekomunikačních optických spojích do cílových aplikací v průmyslu. We present the development and the achieved parameters of the telecom C-band optical frequency laser standard. Compact and robust laser system based on ultra-narrow linewidth fiber laser achieves relative frequency stabilities from 9e-13/1s down to 8e-14/256s levels and can serve as stable frequency source for applications of dissipation of precise time and frequency, wavelength calibrations in optical telecommunication or laser interferometry measurement systems. Keywords: length and time metrology; laser standards; optical frequency stabilization; acetylene Available at various institutes of the ASCR
Laserový standard pro metrologii délky a času

Předkládaná práce popisuje vývoj a dosažené parametry laserového standardu přesného optického kmitočtu pracujícího v IR spektrálním pásmu (okolí 1540 nm). Úkolem bylo vyvinout stabilní a robustní ...

Pravdová, Lenka; Hrabina, Jan; Čížek, Martin; Číp, Ondřej
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-09: Výzkum a vývoj elektrického vakuového konektoru
Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
2017 - Czech
Předmětem projektu byl výzkum a vývoj elektrického vakuového konektoru. Výsledkem projektu byl návrh uspořádání konektoru a technologie výroby skleněných zátavů. Technologie byla testována na řadě vzorků. The project dealt with research and development of an electric vacuum connector. The outcome of the project was design layout of the connector and the technology to produce glass seals. Technology was tested on series of samples. Keywords: vacuum connector Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-09: Výzkum a vývoj elektrického vakuového konektoru

Předmětem projektu byl výzkum a vývoj elektrického vakuového konektoru. Výsledkem projektu byl návrh uspořádání konektoru a technologie výroby skleněných zátavů. Technologie byla testována na řadě ...

Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-12: Vývoj elektroniky pro elektronovou mikroskopii
Zobač, Martin; Vlček, Ivan
2017 - Czech
Náplní je pokračování vývoje zdroje vysokého napětí pro prozařovací elektronový mikroskop včetně vývoje softwaru. The project deals with research and development of high voltage power supply for TEM including software development. Keywords: electronics; TEM; high voltage; power supply; software Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-12: Vývoj elektroniky pro elektronovou mikroskopii

Náplní je pokračování vývoje zdroje vysokého napětí pro prozařovací elektronový mikroskop včetně vývoje softwaru....

Zobač, Martin; Vlček, Ivan
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-14: Vývoj pájených a svařovaných spojů mechanických dílů elektronových mikroskopů
Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
2017 - Czech
Předmětem řešeného projektu byl další výzkum a vývoj nerozebiratelných spojů kovových materiálů s využitím technologie svařování elektronovým svazkem a technologie vakuového pájení. Výsledkem projektu byly konkrétní technologické postupy pro konkrétní sestavy The subject of the project was further research and development of permanent joints of metallic materials by electron beam welding and vacuum brazing. The outcome of the project were specific technological procedures for the given assemblies. Keywords: electron beam welding; vacuum brazing Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-14: Vývoj pájených a svařovaných spojů mechanických dílů elektronových mikroskopů

Předmětem řešeného projektu byl další výzkum a vývoj nerozebiratelných spojů kovových materiálů s využitím technologie svařování elektronovým svazkem a technologie vakuového pájení. Výsledkem projektu ...

Zobač, Martin; Vlček, Ivan; Dupák, Libor
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-27: Charakterizace vzorků s deponovanými tenkými vrstvami
Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
2017 - Czech
Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace, realizace vzorků metodou elektronové litografie a následná charakterizace vzorků. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh optimální planární mikrostruktury realizující požadované vlastnosti, výzkum a modelování možností fyzikální a technologické realizace mikrostruktur s ohledem na limity vědeckých přístrojů, kterými disponujeme ve své laboratoři, přípravu datových vstupů pro expozici na elektronovém litografu, vlastní realizaci vzorků, vyhodnocení těchto vzorků a zpracování technické dokumentace. Development in the field of planar microstructures for optical applications, physical realization of structures by means of electron beam lithography and characterization of the samples. The project covers the processing and analysis of the graphical motive, research and application of planar microstructures performing required properties, research and modeling of the physical possibilities of implementation of microstructures, regard to the limits of current scientific instruments in our laboratory, data preparation for e-beam lithography exposure, samples exposure, verification of properties of samples and technical documentation preparation. Keywords: thin layers; microstructures; optics; e-beam lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-27: Charakterizace vzorků s deponovanými tenkými vrstvami

Vývoj planárních mikrostruktur pro optické aplikace, realizace vzorků metodou elektronové litografie a následná charakterizace vzorků. Projekt zahrnuje zpracování a analýzu technického zadání, návrh ...

Horáček, Miroslav; Kolařík, Vladimír; Matějka, Milan; Krátký, Stanislav; Chlumská, Jana; Meluzín, Petr; Král, Stanislav
Ústav přístrojové techniky, 2017

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases