Number of found documents: 1022
Published from to

SMV-2017-18: Výzkum a vývoj keramického izolátoru pro elektronovu trysku
Zobač, Martin; Vlček, Ivan
2017 - Czech
Předmětem projektu byl výzkum a vývoj speciálního keramického vysokonapěťového izolátoru pro trysku určenou pro elektronové svařování. The subject of the project was the research and development of the special ceramic high-voltage isolation feedthrough for the welding electron gun. Keywords: high voltage feedthrough Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-18: Výzkum a vývoj keramického izolátoru pro elektronovu trysku

Předmětem projektu byl výzkum a vývoj speciálního keramického vysokonapěťového izolátoru pro trysku určenou pro elektronové svařování....

Zobač, Martin; Vlček, Ivan
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM
Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Král, Stanislav; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav; Knápek, Alexandr
2017 - Czech
Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM). Research and development in the field realization of precise relief structures in the silicon dedicated to the testing of the scanning electron microscopes (SEM) deflection field and accuracy. Keywords: relief structure; e-beam lithography; silicon etching; microlithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2017-06: Vývoj testovacích preparátů pro REM

Vývoj v oblasti realizace přesných reliéfních struktur v křemíku určených pro testování zobrazování v rastrovacích elektronových mikroskopech (REM)....

Matějka, Milan; Horáček, Miroslav; Meluzín, Petr; Chlumská, Jana; Král, Stanislav; Kolařík, Vladimír; Krátký, Stanislav; Knápek, Alexandr
Ústav přístrojové techniky, 2017

SMV-2016-04: Výzkum a vývoj vysokonapěťového zdroje 100 kV
Zobač, Martin; Vlček, Ivan
2016 - Czech
Náplní je pokračování vývoje vysokonapěťového zdroje urychlovacího napětí s integrovaným\nnízkonapěťovým zdrojem napájení plovoucí části a výroba prototypu tohoto zdroje. Zdroj primárního\nnapětí je určen pro aplikaci v litografii nebo pro TEM. \n The project deals with research and development of high voltage power supply for particle optics accelerator with integrated power supply for FEG. The supply is intended for electron lithography and for TEM. Keywords: high voltage; high tension; power supply; FEG; TEM; electron lithography Available at various institutes of the ASCR
SMV-2016-04: Výzkum a vývoj vysokonapěťového zdroje 100 kV

Náplní je pokračování vývoje vysokonapěťového zdroje urychlovacího napětí s integrovaným\nnízkonapěťovým zdrojem napájení plovoucí části a výroba prototypu tohoto zdroje. Zdroj primárního\nnapětí je ...

Zobač, Martin; Vlček, Ivan
Ústav přístrojové techniky, 2016

SMV-2016-18: Vypracování a ověření metodiky fyzikální realizace optických tenkých vrstev metodou elektronového napařování
Pokorný, Pavel; Oulehla, Jindřich
2016 - Czech
Vypracování a ověření metodiky fyzikální realizace optických tenkých vrstev metodou elektronového napařování - konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů Design and production feasibility study of various filters production by means of electron beam evaporation - design, development and deposition of interference filters samples Keywords: thin film optics; interference filters; e-beam evaporation Available at various institutes of the ASCR
SMV-2016-18: Vypracování a ověření metodiky fyzikální realizace optických tenkých vrstev metodou elektronového napařování

Vypracování a ověření metodiky fyzikální realizace optických tenkých vrstev metodou elektronového napařování - konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů...

Pokorný, Pavel; Oulehla, Jindřich
Ústav přístrojové techniky, 2016

SMV-2016-19: Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů a zrcadel
Pokorný, Pavel; Oulehla, Jindřich
2016 - Czech
Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů a zrcadel Design, development and deposition of interference filters and mirrors samples Keywords: thin film optics; interference filters; e-beam evaporation Available at various institutes of the ASCR
SMV-2016-19: Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů a zrcadel

Konstrukce, vývoj a depozice vzorků interferenčních filtrů a zrcadel


Design, development and deposition of interference filters and mirrors samples

Pokorný, Pavel; Oulehla, Jindřich
Ústav přístrojové techniky, 2016

SMV-2016-23: Kyvety pro kosmický výzkum
Hrabina, Jan; Holá, Miroslava; Oulehla, Jindřich; Pokorný, Pavel; Lazar, Josef
2016 - Czech
Smluvní výzkum byl zaměřen na vývoj soustavy referenčních prvků pro frekvenční stabilizaci ultra kompaktních laserových zdrojů. Tyto optické reference jsou založeny na bázi absorpčních kyvet plněných čistými plyny a dovolují stabilizaci laserových zdrojů pomocí metod laserové spektroskopie. The contractual research was oriented towards development of a set of optical frequency references intended for frequency stabilization of ultra-compact laser sources. These optical references were based on absorption cells filled with ultra-pure absorption gases and they allow precise locking of the lasers with the methods of laser spectroscopy. Keywords: optical frequency references; absorption cells; laser spectroscopy Available at various institutes of the ASCR
SMV-2016-23: Kyvety pro kosmický výzkum

Smluvní výzkum byl zaměřen na vývoj soustavy referenčních prvků pro frekvenční stabilizaci ultra kompaktních laserových zdrojů. Tyto optické reference jsou založeny na bázi absorpčních kyvet plněných ...

Hrabina, Jan; Holá, Miroslava; Oulehla, Jindřich; Pokorný, Pavel; Lazar, Josef
Ústav přístrojové techniky, 2016

SMV-2016-20: Výpočty detekčních systémů rastrovacích elektronových mikroskopů
Radlička, Tomáš; Oral, Martin; Rozbořil, Jakub
2016 - Czech
V rámci smluvního výzkumu byly analyzovány detekční systémy několika rastrovacích elektronových mikroskopů z portfolia FEI Czech Republic, pro velké množství nastavení systému. Cílem bylo jednak zmapovat detekční mechanizmy, ale také nalézt optimální nastavení systému pro detekci zvolené části spektra signálních elektronů, tak aby se maximalizoval materiálový, nebo topografický kontrast. The analysis of the detection system of scanning electron microscopes produced by FEI Czech Republic was done for many setting of the electron optical system. The main goal was to analyze the detection mechanisms and to find optimal system setting for detection of the given part of signal electron spectrum. It is used for maximization of the material or topographical contrast. Keywords: electron optics; electron microscopy; contrast optimization Available at various institutes of the ASCR
SMV-2016-20: Výpočty detekčních systémů rastrovacích elektronových mikroskopů

V rámci smluvního výzkumu byly analyzovány detekční systémy několika rastrovacích elektronových mikroskopů z portfolia FEI Czech Republic, pro velké množství nastavení systému. Cílem bylo jednak ...

Radlička, Tomáš; Oral, Martin; Rozbořil, Jakub
Ústav přístrojové techniky, 2016

SMV-2016-21: DA modul pro EOD
Radlička, Tomáš
2016 - Czech
V rámci smluvního výzkumu byla vyvinuta softwarová knihovna, která umožňuje užití metody diferenciálních algeber v programu EOD. Byla také vypočteny testovací příklady pro testování funkčnosti softwaru. The program library for integrating the differential algebraic method in the EOD program was developed. The set of examples was computed which enables testing of the software. Keywords: electron optics; differential algebraic method Available at various institutes of the ASCR
SMV-2016-21: DA modul pro EOD

V rámci smluvního výzkumu byla vyvinuta softwarová knihovna, která umožňuje užití metody diferenciálních algeber v programu EOD. Byla také vypočteny testovací příklady pro testování funkčnosti ...

Radlička, Tomáš
Ústav přístrojové techniky, 2016

Automatický systém pro kalibraci koncových měrek optimalizovaný pro legální délkovou metrologii
Buchta, Zdeněk; Šarbort, Martin; Čížek, Martin; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Pikálek, Tomáš; Dvořáčková, Š.; Dvořáček, F.; Kůr, J.; Konečný, P.; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
2016 - Czech
Článek prezentuje bezkontaktní systém pro kalibraci koncových měrek, kombinující laserovou interferometrii a interferometrii nízké koherence. Absolutní hodnota koncové měrky je pak měřena bezkontaktně a jednokrokově, bez nutnosti jakékoli změny v optické sestavě v průběhu měření. Optická sestava je kombinována s podavačem koncových měrek o kapacitě 126 kusů, což umožňuje automatizaci celého měření.\nČlánek prezentuje optimalizační kroky pro přizpůsobení navrženého systému požadavkům sekundární délkové metrologie. Jsou prezentovány výsledky měření, srovnávající nový systém s referenčním systémem TESA-UPC, instalovaným v laboratořích Českého metrologického institutu. This paper presents a contactless system for automatic and contactless gauge blocks calibration based on combination of laser interferometry and low-coherence interferometry. In the presented system, the contactless measurement of the absolute gauge block length is done as a single-step operation without any change in optical setup during the measurement. The optical setup is combined with compact gauge block changer with capacity 126 gauge blocks, which makes the resulting system fully automatic. \nThe paper also presents in detail a set of optimization steps which have been done in order to transform the original experimental setup into the automatic system which meets legal length metrology requirements. To prove the measurement traceability, we conducted a set of gauge block length measurement comparing data from the optimized system and the established reference system and TESA–UPC operated in Czech Metrology Institute laboratory. Keywords: laser interferometry; low-coherence interferometry; gauge block; metrology Available at various institutes of the ASCR
Automatický systém pro kalibraci koncových měrek optimalizovaný pro legální délkovou metrologii

Článek prezentuje bezkontaktní systém pro kalibraci koncových měrek, kombinující laserovou interferometrii a interferometrii nízké koherence. Absolutní hodnota koncové měrky je pak měřena bezkontaktně ...

Buchta, Zdeněk; Šarbort, Martin; Čížek, Martin; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Pikálek, Tomáš; Dvořáčková, Š.; Dvořáček, F.; Kůr, J.; Konečný, P.; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
Ústav přístrojové techniky, 2016

Fázově koherentní přenos stabilní optické frekvence pro senzorické sítě
Čížek, Martin; Pravdová, Lenka; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Hrabina, Jan; Mikel, Břetislav; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
2016 - Czech
Využití optických vláken pro fázově koherentní přenosy vysoce stabilních optických frekvencí na velké vzdálenosti je testováno světovými metrologickými laboratořemi již řadu let. Současný rozmach moderních optovláknových senzorů v průmyslových aplikacích vytváří poptávku po transferu technologie fázově koherentních přenosů z laboratoří do průmyslové praxe. Příkladem může být dálková kalibrace tenzometrů pracujících na principu Braggových vláknových mřížek. V našem příspěvku prezentujeme 306 km dlouhou obousměrnou experimentální optickou trasu pro fázově koherentní přenosy z pracoviště oddělení Koherenční optiky na ÚPT AVČR v Brně do laboratoře sdružení CESNET v Praze. Linka využívá telekomunikační vlákno s vyhrazeným DWDM oknem 1540-1546 nm. V tomto okně probíhá stabilizovaný fázově koherentní přenos laserového normálu pracujícího na vlnové délce 1540,5 nm a obousměrný přenos časových značek 1PPS z časových normálů na obou koncích trasy. V příspěvku je diskutováno dlouhodobé měření fluktuací transportního zpoždění a relativní stability linky. Using long-haul optical fiber links for phase coherent transfers of stable optical frequencies has been developed by metrological laboratories for at least a decade. Present boom of optical fiber sensors puts a demand on transferring this technology from laboratories to industrial practice. A remote calibration of fiber Bragg grating tensometers can be an example. In our contribution we present a 306 km long fiber link between laboratories of ISI in Brno and CESNET in Prague. The line uses a telecom fiber with a dedicated DWDM window at 1540-1546 nm. The setup implements a phase coherent transfer of a laser standard working with 1540.5nm wavelength and a bi-directional transfer of 1PPS timestamps from radiofrequency standards at the both ends of the line. A long-term measurement of transport delay fluctuations and relative stability of the line are discussed. Keywords: metrology; photonic networks; time and frequency standards; transport delay stability measurement Available at various institutes of the ASCR
Fázově koherentní přenos stabilní optické frekvence pro senzorické sítě

Využití optických vláken pro fázově koherentní přenosy vysoce stabilních optických frekvencí na velké vzdálenosti je testováno světovými metrologickými laboratořemi již řadu let. Současný rozmach ...

Čížek, Martin; Pravdová, Lenka; Hucl, Václav; Řeřucha, Šimon; Hrabina, Jan; Mikel, Břetislav; Lazar, Josef; Číp, Ondřej
Ústav přístrojové techniky, 2016

About project

NRGL provides central access to information on grey literature produced in the Czech Republic in the fields of science, research and education. You can find more information about grey literature and NRGL at service web

Send your suggestions and comments to nusl@techlib.cz

Provider

http://www.techlib.cz

Facebook

Other bases